半光镍电镀

A、本产品是专为多层镍电镀工艺而研发的半光亮镍电镀添加剂。 B、采用进口原料配制,不含香豆素等成份,分解产物少。平常使用基本单一补充,维护方便。 C、镀层物理性能优越,基本不含硫,与光亮镍之间电位差稳定(≥125MV)。 D、镀层内应力低,出光度快、亮度均匀、平整性高、镀层接近全光亮。

  • 类型:半光镍电镀

一、特点
A、本产品是专为多层镍电镀工艺而研发的半光亮镍电镀添加剂。
B、采用进口原料配制,不含香豆素等成份,分解产物少。平常使用基本单一补充,维护方便。
C、镀层物理性能优越,基本不含硫,与光亮镍之间电位差稳定(≥125MV)。
D、镀层内应力低,出光度快、亮度均匀、平整性高、镀层接近全光亮。

二、工艺配方及操作条件

工艺范围

最佳工艺

硫酸镍

200300g/L

280g/L

氯化镍

3550g/L

45g/L

硼酸

4045g/L

40g/L

半光亮镍开港剂

812mI/L

10mI/L

半光亮镍光亮剂

0.30.6mI/L

0.4mI/L

半光亮镍辅助剂

13mI /L

2mI/L

PH

3.84.8

4.2

温度

5060

55

电压

1216

12~16

搅拌

空气或机械搅拌

 

 

 

 

三、槽液配制
A、用总体积2/3的温水溶解计算量的硫酸镍及氯化镍;
B、用80℃以上热水或沸水溶解硼酸并加入上述溶液;
C、用碳酸镍或5%氢化钠调整PH5.2左右,加入1~2I/L双氧水搅拌1-2小时后,升温至70℃以上,再加入1-2g/的活性碳搅拌1小时,静置12小时以上后过滤.
D、用稀硫酸调整PH值至4.2左右,小电流电解数小时后加入配方量的光泽剂(添加剂)即可试镀

四、光亮剂作用

1、半光亮镍开缸剂主要是起开缸作用,新配镀液时一次加入足量,平常操作基本不添加.在配合光亮剂和辅助剂的同时,具有抗杂作用,能有效隐蔽铜铁等金属杂质.平常基本不消耗,只是随工件带出量每日应补充开缸量的1/20,以保证溶液之完好性。
    2、半光亮镍光亮剂主要是保证平时工作之正常,平衡消耗,补充量随工件表面状态,光亮度及平整度的要求而有差异,在使用较低电流密度时,补充量要较高些消耗量一般为250~300ml/KAH

3、半光亮镍辅助剂是专门用与调整电位差的电位差调节剂.要求有较高耐腐蚀能力的镀层时按80~150ml/KAH补充。
五、工艺流程
    除油→水洗→水洗→ 除锈→水洗→活化→半光亮镍→水洗→ 水洗→高硫镍→ 水洗→ 水洗→光亮镍→水洗→水洗→镀铬→水洗→水洗→干燥
六、注意:
    为保证多层镍电镀工艺中镀层的耐腐蚀性能不受影响,请勿将高硫镍光亮镍溶液等含硫物质带入半光亮镍溶液中!!!